钽靶

钽靶

钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材,化学纯度高,晶粒尺寸小,再结晶组织和三个轴向的一致性好,主要应用于光导纤维,半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜,钽靶材可用于阴极溅射涂层,高真空吸气活性材料等,是重要的薄膜技术用材料。

 

☆性 能: 

 

     —高熔点—2996℃                               —高密度—16.6 g/cm3 

     —延展性强                                           —热膨胀系数低

     —易于在室温加工                                —外观:银灰色,光亮表面

     —具有良好的耐腐蚀性,150℃以下化学性能最稳定,与盐酸,浓硝酸及王水无反应。

       

 

 

☆化学成分:

 

化学成分         %

牌号

主成分

杂质含量  不大于 

Ta

其他元素

Fe

Si

Ni

W

Mo

Ti

Nb

O

C

H

N

Ta1

余量

0.004

0.003

0.002

0.004

0.004

0.002

0.03

0.015

0.004

0.0015

0.002

Ta2.5W

余量

W2.0~3.5

0.01

0.005

0.005

0.02

0.003

0.05

0.015

0.01

0.002

0.01

Ta10W

余量

W9.5~11

0.01

0.005

0.005

0.02

0.003

0.05

0.015

0.01

0.002

0.01

TaNb3

余量

Nb1.5~3.5

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

0.03

0.02

0.005

0.025

注:Ta1=RO5200     Ta2.5W=RO5252     Ta10W=RO5255

 

 

 

☆规 格:

 

          1.厚度 1~20mm, 宽度 10~1000mm, 长度 200~2000mm

          2.直径25-400mm,厚度3-28mm

          3.按照客户要求

 

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